ASAHI-RIKA旭理化

原装ASAHI-RIKA旭理化 陶瓷电管状炉 ARF-112-4型

本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-112-4型试样尺寸可为2英寸及3英寸炉数[IDph70x 2本][IDφ90×2本]使用范围温度常温+100度C~110度C最高温度至1200度升温时间至常温~1100C约60分钟加热器3区式、坎塔线石英燃烧

本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。

※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等

可根据试样的大小、数量进行装置配置。


形式ARF-112-4型

试样尺寸可为2英寸及3英寸

炉数[IDph70x 2本]

[IDφ90×2本]

使用范围温度常温+100度C~110度C

最高温度至1200度

升温时间至常温~1100C约60分钟

加热器3区式、坎塔线

石英燃烧管[IDph70x 1000L]

[IDφ90×1000L]

气体种类氧、氮、氢、氮

价格(外税)元11,200,000~

※记载的温度值为无负载时的测量数据,并非保证值。产品价格包括消费税、配送费设置费相关工程费用不包括在内。

※注意事项请看这里。