原装ASAHI-RIKA旭理化 陶瓷电管状炉 ARF-151-135-III型
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-151-135-III型试样尺寸4英寸芯片25片:1充电×炉心管的尺寸IDf135 1400mmL×2式使用范围温度常温+100度C~1000度C最高温度至1200度均热带长度±5°C中央350mm加热器区域1
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-151-135-III型试样尺寸4英寸芯片25片:1充电×炉心管的尺寸IDf135 1400mmL×2式使用范围温度常温+100度C~1000度C最高温度至1200度均热带长度±5°C中央350mm加热器区域1
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。
※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等
可根据试样的大小、数量进行装置配置。
形式ARF-151-135-III型
试样尺寸4英寸芯片25片:1充电×
炉心管的尺寸IDf135 1400mmL×2式
使用范围温度常温+100度C~1000度C
最高温度至1200度
均热带长度±5°C中央350mm
加热器区域180 250x 350×250mmL
电容单相AC200V 5.5Kw
※记载的温度值为无负载时的测量数据,并非保证值。产品价格包括消费税、配送费设置费相关工程费用不包括在内。
※注意事项请看这里。