ASAHI-RIKA旭理化

原装ASAHI-RIKA旭理化 陶瓷电管状炉 ARF-150型

本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-150型样品尺寸可达3英寸芯片炉数[IDph93 1本]使用范围温度常温+100度C~110度C最高温度至1200度升温时间至常温~1100C约60分钟加热器3区式、坎塔线石英燃烧管[IDph93 1200L]

本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。

※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等

可根据试样的大小、数量进行装置配置。


形式ARF-150型

样品尺寸可达3英寸芯片

炉数[IDph93 1本]

使用范围温度常温+100度C~110度C

最高温度至1200度

升温时间至常温~1100C约60分钟

加热器3区式、坎塔线

石英燃烧管[IDph93 1200L]

气体种类氧、氮、氢、氮


※记载的温度值为无负载时的测量数据,并非保证值。产品价格包括消费税、配送费设置费相关工程费用不包括在内。

※注意事项请看这里。