原装ASAHI-RIKA旭理化 陶瓷电管状炉 ARF-150型
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-150型样品尺寸可达3英寸芯片炉数[IDph93 1本]使用范围温度常温+100度C~110度C最高温度至1200度升温时间至常温~1100C约60分钟加热器3区式、坎塔线石英燃烧管[IDph93 1200L]
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等可根据试样的大小、数量进行装置配置。形式ARF-150型样品尺寸可达3英寸芯片炉数[IDph93 1本]使用范围温度常温+100度C~110度C最高温度至1200度升温时间至常温~1100C约60分钟加热器3区式、坎塔线石英燃烧管[IDph93 1200L]
本机主要以半导体的热处理研究※为目的而设计,通过将各种炉封装在一个装置中,可以节省空间、功能性地使用。
※干氧化、湿氧化、扩散、还原、一般处理等
可根据试样的大小、数量进行装置配置。
形式ARF-150型
样品尺寸可达3英寸芯片
炉数[IDph93 1本]
使用范围温度常温+100度C~110度C
最高温度至1200度
升温时间至常温~1100C约60分钟
加热器3区式、坎塔线
石英燃烧管[IDph93 1200L]
气体种类氧、氮、氢、氮
※记载的温度值为无负载时的测量数据,并非保证值。产品价格包括消费税、配送费设置费相关工程费用不包括在内。
※注意事项请看这里。