日本进口 EBARA荏原 蚀刻工艺 EV-X200N干式真空泵

池田屋 日本 EBARA荏原 SEMI半导体 EV-X100N干式真空泵

日本进口 EBARA荏原 蚀刻工艺 EV-X200N干式真空泵

EV-X型

结构紧凑、节能，单个装置可覆盖多种工艺

产品介绍

该款中负荷工序用干式真空泵搭载了荏原独特的节能技术，

并采用了针对自动化工厂制造而优化的模块化设计，

实现了进一步的小型化和节能化。

宽范围的温度控制扩大了适用工艺。

由于同一型号可覆盖多个工艺，因此可优化备用设备库存，

减少维护和培训工作，并可灵活适应未来的工艺扩展。

此外，通过对各工序进行最佳温度控制，

可提高工序耐性，并可延长零件的更换周期，

有助于降低TCoO。

支持的应用示例：

各种蚀刻和CVD、灰化、离子注入、外延生长等。

作为中等负荷工艺专用的干式真空泵，

搭载荏原特有的节能技术，采用面向自

动化工厂制造的优化模块设计，并进一步实现了小型化和节能化。

 通过大范围的温度控制，扩大了适用工艺范围。

因同一机型能够覆盖多种工艺，

能够优化备用设备的库存，减少用于

维护和培训的人力时间，并且能够灵活应

对未来的工艺扩展。