G5-1200-P1实验室 废气处理设备PH3、GeH4气体 EBARA荏原
G5-600-P1半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原G5-600-P2半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原G5-600-P3半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原高可维护性 G5-600-P4大流量废气处理设备NF3、ClF3气体 EBARA荏原高可维护性 G5-600-P5大流量废气处理设备NF3、C
G5-600-P1半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原
G5-600-P2半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原
G5-600-P3半导体制造大流量废气处理设备 高效处理 PFC 气体 EBARA荏原
高可维护性 G5-600-P4大流量废气处理设备NF3、ClF3气体 EBARA荏原
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高可维护性G5-600-P6大流量废气处理设备NF3、ClF3气体 EBARA荏原
G5-1200-P1实验室 废气处理设备PH3、GeH4气体 EBARA荏原
高效处理可燃气体及温室气体（PFCs气体）、燃烧式废气处理设备
G5 型得益于荏原独特的废气处理技术，
在气体处理性能、安全性和使用寿命
等方面都有着大幅的提升，并且具有高维护性。
该燃烧型废气处理系统有两种
类型，最大进气量分别为 350 L/min 和 500 L/min。
●可处理各种可燃性、活性、惰性气体
（特别管控危险化学品除外）；
●可同时处理工艺气体和清洁气体；
●可高效分解包括PFCs在内的温室气体；
●低运行成本（根据处理的对象气体，燃料供给量可变）；
●大幅提升高运行时间和维护性（自动刮板、流水壁结构等）；
●设置有各种安全对策标准。
G5型得益于荏原独特的废气处理技术，
有着处理性能优秀、安全性高和使用
寿命长等优点。分为最大气体流量
600L/min和1200L/min两种类型。适用于
半导体制造过程中如TEOS等含有
Si源的可燃气体的大流量废气处理。
●比普通G5型更高的流量规格；
●进气口从4个增加到6个；
●标配副产物清除功能（燃烧器部分），可用性更高；
●标配自动除粉功能（储气罐部分），大幅延长维护周期；
●根据处理气体的类型和量按需运行（能耗自动变化），可降低运行成本。